在太大了,绝对不是十年或者二十年能赶上的。

　　在他重生之前，美国正对中国半导体企业实施的打压，其手段可谓是无所不用其极，想千方百计地遏制中国半导体企业的发展。

　　芯片被誉为制造业的大脑，随着科学技术的发展和电子产品在国民经济中所占的比重越来越高大，芯片的重要性还会进一步提升。

　　从计算机到汽车，从手机到人工智能设备，一切都离不开芯片。

　　所以芯片已经成为美国遏制中国高科技企业发展的核心领域。卡住芯片，就相当于卡住了中国高科技发展的一个动力源。

　　所以，如果中国半导体企业想在芯片制造领域取得重大突破，除了在芯片设计外，还要发展芯片制程技术和光刻机设备。

　　目前，市场上主流的芯片架构有英特尔、安谋和美普斯三种。安谋架构和英特尔架构是市场份额占有率最高的两大架构，分别在计算机和移动设备上有着不可替代的优势，处于完全垄断的卖方市场。

　　如果没有安谋和英特尔的授权，国内大多数芯片制造商，根本没法做出芯片。

　　制作芯片所需要的光刻机，目前主要有三家公司进行生产，分别是尼康公司和佳能公司，以及荷兰的ASML公司，这三家公司可以说是全球光刻机的三大巨头。

　　一直以来，只有美日韩才可以拥有高端光刻机，对中国芯片制造企业实施技术封锁。

　　李向阳说道：“我们不能放弃自主研发能力，只有自我发展好才是硬道理。我们以后不但要发展芯片制造技术，还要在芯片制程技术和光刻机设备上下功夫，既要打造中国独有的芯片设计架构，还要制造中国人自己的光刻机。”

　　众人听后，都不由地沉默起来，虽然芯片设计架构至关重要，但一时之间还无法改变，还摆脱不了两大芯片架构厂商的限制。

　　打造国产光刻机，才是中国众多芯片制造企业的梦想，而且是重中之重，不能让美国在光刻机设备上一直卡中国企业的脖子。

　　七十年代，中国在光刻机设备上曾经发展的不错，已经打造出中国自主研发的光刻机，虽然没有超越当时的世界先进水平，但和发达国家的光刻机相差并不大。

　　八十年代以来，由于可以购买到高性价比的国外光刻机，绝大多数芯片制造企业开始大量引进国外的光刻机，忽视了自主创新能力，使中国的光刻机研发在各方面都出现了脱节，从而让中国在光刻机领域再次落后于发达国家。

　　进入二十一世纪，中国大多数芯片制造企业才醒悟过来，正式启动193纳米光刻机项目，但这已经落后ASML公司二十多年，虽然中国在各方面急追猛赶，但始终没有在光刻机上取得历史性的突破。

　　而且我国光刻机的光源技术受限193纳米

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